Siliciumcarbide (SiC) eenkristalmateriaal heeft een grote bandbreedte (~Si 3 keer), hoge thermische geleidbaarheid (~Si 3,3 keer of GaAs 10 keer), hoge elektronenverzadigingsmigratiesnelheid (~Si 2,5 keer), hoge elektrische doorslag veld (~Si 10 keer of GaAs 5 keer) en andere uitstekende kenmerken.
SiC-apparaten hebben onvervangbare voordelen op het gebied van elektronische apparaten met hoge temperatuur, hoge druk, hoge frequentie en hoog vermogen en toepassingen in extreme omgevingen, zoals de lucht- en ruimtevaart, het leger, kernenergie, enz., en compenseren in de praktijk de tekortkomingen van traditionele apparaten van halfgeleidermateriaal. toepassingen, en worden geleidelijk de mainstream van vermogenshalfgeleiders.
4H-SiC Siliciumcarbide substraatspecificaties
Item is | Specificaties参数 | |
Polytype | 4H-SiC | 6H-SiC |
Diameter | 2 inch | 3 inch | 4 inch | 6 inch | 2 inch | 3 inch | 4 inch | 6 inch |
Dikte | 330 µm ~ 350 µm | 330 µm ~ 350 µm |
Geleidbaarheid | N – type / Semi-isolerend | N – type / Semi-isolerend |
Doteringsmiddel | N2 (stikstof)V (vanadium) | N2 (stikstof) V (vanadium) |
Oriëntatie | Op as <0001> | Op as <0001> |
Weerstand | 0,015 ~ 0,03 ohm-cm | 0,02 ~ 0,1 ohm-cm |
Microbuisdichtheid (MPD) | ≤10/cm2 ~ ≤1/cm2 | ≤10/cm2 ~ ≤1/cm2 |
TTV | ≤ 15 μm | ≤ 15 μm |
Boeg / Warp | ≤25 μm | ≤25 μm |
Oppervlak | DSP/SSP | DSP/SSP |
Cijfer | Productie / onderzoekskwaliteit | Productie / onderzoekskwaliteit |
Kristalstapelreeks | ABCB | ABCABC |
Roosterparameter | a=3,076A, c=10,053A | a=3,073A, c=15,117A |
Bijv./eV(bandafstand) | 3,27 eV | 3,02 eV |
ε (diëlektrische constante) | 9.6 | 9.66 |
Brekingsindex | n0 =2,719 ne =2,777 | n0 =2,707, ne =2,755 |
6H-SiC Siliciumcarbide substraatspecificaties
Item is | Specificaties参数 |
Polytype | 6H-SiC |
Diameter | 4 inch | 6 inch |
Dikte | 350 μm ~ 450 μm |
Geleidbaarheid | N – type / Semi-isolerend |
Doteringsmiddel | N2( Stikstof ) |
Oriëntatie | <0001> uit 4°± 0,5° |
Weerstand | 0,02 ~ 0,1 ohm-cm |
Microbuisdichtheid (MPD) | ≤ 10/cm2 |
TTV | ≤ 15 μm |
Boeg / Warp | ≤25 μm |
Oppervlak | Si Face: CMP, Epi-Ready |
Cijfer | Onderzoeksgraad |