Vatstructuur voor vatsusceptor

Korte beschrijving:

Semicera biedt een uitgebreid assortiment susceptoren en grafietcomponenten ontworpen voor verschillende epitaxiereactoren.

Door strategische partnerschappen met toonaangevende OEM's, uitgebreide expertise op het gebied van materialen en geavanceerde productiemogelijkheden, levert Semicera op maat gemaakte ontwerpen om aan de specifieke eisen van uw toepassing te voldoen.Onze toewijding aan uitmuntendheid zorgt ervoor dat u optimale oplossingen krijgt voor uw epitaxiereactorbehoeften.

 

Product detail

Productlabels

Ons bedrijf biedtSiC-coatingprocesdiensten op het oppervlak van grafiet, keramiek en andere materialen volgens de CVD-methode, zodat speciale gassen die koolstof en silicium bevatten bij hoge temperaturen kunnen reageren om zeer zuivere Sic-moleculen te verkrijgen, die op het oppervlak van gecoate materialen kunnen worden afgezet om eenSiC-beschermlaagvoor epitaxie-barreltype hy pnotic.

 

Belangrijkste kenmerken:

1. SiC-gecoat grafiet met hoge zuiverheid

2. Superieure hittebestendigheid en thermische uniformiteit

3. PrimaSiC-kristalcoatingvoor een glad oppervlak

4. Hoge duurzaamheid tegen chemische reiniging

 
硅外延2-Si epitaxiale onderdelen

 Belangrijkste specificaties vanCVD-SIC-coating

SiC-CVD-eigenschappen

Kristal structuur FCC β-fase
Dikte g/cm³ 3.21
Hardheid Vickers-hardheid 2500
Korrelgrootte urn 2~10
Chemische zuiverheid % 99,99995
Warmte capaciteit J·kg-1 ·K-1 640
Sublimatietemperatuur 2700
Flexurale kracht MPa (RT 4-punts) 415
Young's Modulus Gpa (4pt bocht, 1300℃) 430
Thermische uitzetting (CTE) 10-6K-1 4.5
Warmtegeleiding (W/mK) 300
2--cvd-sic-zuiverheid---99-99995-_60366
5----sic-crystal_242127
Semicera-werkplaats
Semicera-werkplaats 2
Uitrustingsmachine
CNN-verwerking, chemische reiniging, CVD-coating
Onze service

  • Vorig:
  • Volgende: