Siliciumcarbide horizontale bootplaat

Horizontale bootplaat van siliciumcarbide Uitgelichte afbeelding

Korte beschrijving:

Semicera levert wafelboten, houderen aangepaste waferdragers voor verticale/kolom- en horizontale configuraties.Geavanceerde keramiek biedt uitstekende hittebestendigheid en plasmaduurzaamheid, terwijl deeltjes en verontreinigende stoffen worden verminderd.Siliciumcarbide (SiC) van halfgeleiderkwaliteit biedt ook sterkte bij hoge temperaturen voor waferdragers met hoge capaciteit.

Stuur een e-mail naar ons

Product detail

Productlabels

Introductie van onze ultramoderne siliciumcarbide horizontale bootplaat, zorgvuldig ontworpen voor de waferverwerkingstoepassingen van de halfgeleiderindustrie.Onze horizontale bootplaat is gemaakt van het beste siliciumcarbide en onderscheidt zich door zijn superieure thermische eigenschappen, chemische weerstand en mechanische sterkte.Deze bootplaat is ideaal voor processen bij hoge temperaturen en is ontworpen om uitzonderlijke prestaties te leveren en precisie en efficiëntie bij elk gebruik te garanderen.

Belangrijkste kenmerken

Uitzonderlijke duurzaamheid:Gemaakt van zeer zuiver siliciumcarbide, onze boot plaatis ontworpen om extreme temperaturen tot1600°C, wat een ongeëvenaarde duurzaamheid en levensduur biedt.

Uniforme warmteverdeling:De thermische geleidbaarheid van siliciumcarbide zorgt voor een gelijkmatige warmteverdeling over de plaat, wat van cruciaal belang is voor het handhaven van de procesconsistentie en het bereiken van hoogwaardige wafelproductie.

Chemische weerstand:Onze bootplaat is bestand tegen corrosieve chemicaliën en zware omstandigheden en behoudt zijn integriteit en prestaties, zelfs in de meest veeleisende halfgeleiderverwerkingstoepassingen.

Hoge mechanische sterkte:De robuuste constructie van onzeboot plaatgarandeert uitstekende mechanische sterkte en slijtvastheid, waardoor het risico op schade en de noodzaak van frequente vervangingen worden verminderd.

Toepassingen:

OnsSiliciumcarbide horizontale bootplaatis perfect voor een breed scala aan hogetemperatuurprocessen bij de productie van halfgeleiders, inclusief maar niet beperkt tot diffusie-, oxidatie-, ionenimplantatie- en CVD-processen.Het ontwerp en de materialen zorgen ervoor dat het aan de precieze vereisten van waferverwerking kan voldoen, waardoor het een essentieel onderdeel is voor productielijnen voor halfgeleiders.

Over ons