De LPE-meniscusreactor van Semicera is ontworpen voor vloeistoffase-epitaxie (LPE)-toepassingen en beschikt over een innovatief ontwerp dat efficiënteCVD SiC-coatingsen ondersteunt een verscheidenheid aan epitaxieprocessen, waaronder ASM-epitaxie enMOCVD. De robuuste constructie en precisietechniek van de LPE-meniscusreactor zorgen voor een efficiënt thermisch beheer en een uniforme afzetting.
Semicera streeft ernaar hoogwaardige oplossingen te bieden aan de halfgeleiderindustrie. OnsLPE Meniscusreactoris vervaardigd met duurzame materialen en precisietechniek om betrouwbaarheid en een lange levensduur te garanderen. De unieke kenmerken van deze kamer zorgen voor een uitstekend thermisch beheer en een uniforme depositie, waardoor het een grote aanwinst is voor elke laboratorium- of productieomgeving.
Kies de LPE-meniscusreactor van Semicera om uw epitaxiale werking te verbeterenMOCVD-procesen bereik uitstekende resultaten bij de afzetting van dunne films. Onze toewijding aan kwaliteit en innovatie zorgt ervoor dat u een product ontvangt dat aan de hoogste industrienormen voldoet.
