Tantaalcarbide gecoate wafeldrager

Korte beschrijving:

De Tantalum Carbide Coated Wafer Carrier van Semicera Semiconductor is ontworpen voor hoge prestaties bij de productie van halfgeleiders. Het is voorzien van een robuuste tantaalcarbidecoating en zorgt voor uitzonderlijke slijtvastheid, hoge thermische stabiliteit en superieure bescherming in zware omgevingen. Deze drager is ideaal voor MOCVD-processen en verbetert de efficiëntie van de waferverwerking, verlengt de levensduur van apparatuur en levert consistente resultaten in kritische toepassingen.


Productdetail

Productlabels

Semicera levert gespecialiseerde tantaalcarbide (TaC) coatings voor diverse componenten en dragers.Dankzij het toonaangevende coatingproces van Semicera kunnen tantaalcarbide (TaC) coatings een hoge zuiverheid, hoge temperatuurstabiliteit en hoge chemische tolerantie bereiken, waardoor de productkwaliteit van SIC/GAN-kristallen en EPI-lagen wordt verbeterd (Met grafiet gecoate TaC-susceptor), en het verlengen van de levensduur van belangrijke reactorcomponenten. Het gebruik van tantaalcarbide TaC-coating is om het randprobleem op te lossen en de kwaliteit van de kristalgroei te verbeteren, en Semicera heeft de tantaalcarbide-coatingtechnologie (CVD) doorbraak opgelost en daarmee het internationale geavanceerde niveau bereikt.

 

Met tantaalcarbide beklede wafeldragers worden veel gebruikt bij wafelverwerkings- en hanteringsprocessen in halfgeleiderproductieprocessen. Ze bieden stabiele ondersteuning en bescherming om de veiligheid, nauwkeurigheid en consistentie van wafers tijdens het productieproces te garanderen. Tantaalcarbidecoatings kunnen de levensduur van de drager verlengen, de kosten verlagen en de kwaliteit en betrouwbaarheid van halfgeleiderproducten verbeteren.

De beschrijving van de met tantaalcarbide gecoate waferdrager is als volgt:

1. Materiaalkeuze: Tantaalcarbide is een materiaal met uitstekende prestaties, hoge hardheid, hoog smeltpunt, corrosieweerstand en uitstekende mechanische eigenschappen, dus het wordt veel gebruikt in het productieproces van halfgeleiders.

2. Oppervlaktecoating: Tantaalcarbidecoating wordt via een speciaal coatingproces op het oppervlak van de waferdrager aangebracht om een ​​uniforme en dichte tantaalcarbidecoating te vormen. Deze coating kan extra bescherming en slijtvastheid bieden, terwijl het een goede thermische geleidbaarheid heeft.

3. Vlakheid en precisie: Tantaalcarbide gecoate waferdrager heeft een hoge mate van vlakheid en precisie, waardoor de stabiliteit en nauwkeurigheid van wafers tijdens het productieproces wordt gegarandeerd. De vlakheid en afwerking van het drageroppervlak zijn van cruciaal belang om de kwaliteit en prestaties van de wafer te garanderen.

4. Temperatuurstabiliteit: Met tantaalcarbide gecoate waferdragers kunnen de stabiliteit behouden in omgevingen met hoge temperaturen zonder vervorming of losraken, waardoor de stabiliteit en consistentie van wafers bij processen bij hoge temperaturen wordt gegarandeerd.

5. Corrosiebestendigheid: Tantaalcarbide coatings hebben een uitstekende corrosieweerstand, zijn bestand tegen de erosie van chemicaliën en oplosmiddelen en beschermen de drager tegen vloeistof- en gascorrosie.

微信图foto_20240227150045

met en zonder TaC

微信图foto_20240227150053

Na gebruik van TaC (rechts)

Bovendien Semicera'sTaC-gecoate productenvertonen een langere levensduur en een grotere weerstand tegen hoge temperaturen in vergelijking metSiC-coatings.Laboratoriummetingen hebben aangetoond dat onzeTaC-coatingskan consistent presteren bij temperaturen tot 2300 graden Celsius gedurende langere perioden. Hieronder vindt u enkele voorbeelden van onze monsters:

 
0(1)
Semicera-werkplaats
Semicera-werkplaats 2
Uitrustingsmachine
Semicera Warenhuis
CNN-verwerking, chemische reiniging, CVD-coating
Onze service

  • Vorig:
  • Volgende: