Inleiding tot CVD TaC-coating:
CVD TaC Coating is een technologie die gebruik maakt van chemische dampafzetting om tantaalcarbide (TaC) coating op het oppervlak van een substraat af te zetten. Tantaalcarbide is een hoogwaardig keramisch materiaal met uitstekende mechanische en chemische eigenschappen. Het CVD-proces genereert door middel van gasreactie een uniforme TaC-film op het oppervlak van het substraat.
Belangrijkste kenmerken:
Uitstekende hardheid en slijtvastheid: Tantaalcarbide heeft een extreem hoge hardheid en CVD TaC Coating kan de slijtvastheid van het substraat aanzienlijk verbeteren. Dit maakt de coating ideaal voor toepassingen in omgevingen met hoge slijtage, zoals snijgereedschappen en matrijzen.
Stabiliteit op hoge temperatuur: TaC-coatings beschermen kritische oven- en reactorcomponenten bij temperaturen tot 2200°C, wat een goede stabiliteit aantoont. Het behoudt de chemische en mechanische stabiliteit onder extreme temperatuuromstandigheden, waardoor het geschikt is voor verwerking bij hoge temperaturen en toepassingen in omgevingen met hoge temperaturen.
Uitstekende chemische stabiliteit: Tantaalcarbide heeft een sterke corrosieweerstand tegen de meeste zuren en logen, en CVD TaC Coating kan schade aan het substraat in corrosieve omgevingen effectief voorkomen.
Hoog smeltpunt: Tantaalcarbide heeft een hoog smeltpunt (ongeveer 3880°C), waardoor CVD TaC Coating kan worden gebruikt bij extreem hoge temperaturen zonder te smelten of af te breken.
Uitstekende thermische geleidbaarheid: TaC-coating heeft een hoge thermische geleidbaarheid, wat helpt bij het effectief afvoeren van warmte bij processen bij hoge temperaturen en het voorkomen van lokale oververhitting.
Potentiële toepassingen:
• Galliumnitride (GaN) en siliciumcarbide epitaxiale CVD-reactorcomponenten, waaronder waferdragers, satellietschotels, douchekoppen, plafonds en susceptors
• Kristalgroeicomponenten van siliciumcarbide, galliumnitride en aluminiumnitride (AlN), waaronder smeltkroezen, zaadhouders, geleidingsringen en filters
• Industriële componenten, waaronder weerstandsverwarmingselementen, injectiesproeiers, maskeerringen en soldeermallen
Applicatiefuncties:
• Temperatuur stabiel boven 2000°C, waardoor werking bij extreme temperaturen mogelijk is
•Bestand tegen waterstof (Hz), ammoniak (NH3), monosilaan (SiH4) en silicium (Si), waardoor bescherming wordt geboden in agressieve chemische omgevingen
• De thermische schokbestendigheid maakt snellere bedrijfscycli mogelijk
• Grafiet heeft een sterke hechting, waardoor een lange levensduur wordt gegarandeerd en er geen delaminatie van de coating optreedt.
• Ultrahoge zuiverheid om onnodige onzuiverheden of verontreinigingen te elimineren
• Conformele coatingdekking met nauwe maattoleranties
Technische specificaties:
Bereiding van dichte tantaalcarbidecoatings door CVD:
TAC-coating met hoge kristalliniteit en uitstekende uniformiteit:
CVD TAC COATING Technische parameters_Semicera:
Fysische eigenschappen van TaC-coating | |
Dikte | 14,3 (g/cm³) |
Bulkconcentratie | 8 x 1015/cm |
Specifieke emissiviteit | 0,3 |
Thermische uitzettingscoëfficiënt | 6.3 10-6/K |
Hardheid (HK) | 2000 Hongkong |
Bulkweerstand | 4,5 ohm-cm |
Weerstand | 1x10-5Ohm*cm |
Thermische stabiliteit | <2500℃ |
Mobiliteit | 237 cm2/Vs |
Grafietgrootte verandert | -10~-20um |
Dikte van de coating | ≥20um typische waarde (35um+10um) |
Bovenstaande zijn typische waarden.