Siliciumcarbide-epitaxie

Korte beschrijving:

Siliciumcarbide-epitaxie– Epitaxiale lagen van hoge kwaliteit, op maat gemaakt voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen, die superieure prestaties en betrouwbaarheid bieden voor vermogenselektronica en opto-elektronische apparaten.


Productdetail

Productlabels

Semicera'sSiliciumcarbide-epitaxieis ontworpen om te voldoen aan de strenge eisen van moderne halfgeleidertoepassingen. Door gebruik te maken van geavanceerde epitaxiale groeitechnieken zorgen we ervoor dat elke siliciumcarbidelaag een uitzonderlijke kristallijne kwaliteit, uniformiteit en minimale defectdichtheid vertoont. Deze kenmerken zijn cruciaal voor de ontwikkeling van hoogwaardige vermogenselektronica, waarbij efficiëntie en thermisch beheer voorop staan.

DeSiliciumcarbide-epitaxieHet proces bij Semicera is geoptimaliseerd om epitaxiale lagen te produceren met nauwkeurige dikte- en dopingcontrole, waardoor consistente prestaties op een reeks apparaten worden gegarandeerd. Dit nauwkeurigheidsniveau is essentieel voor toepassingen in elektrische voertuigen, duurzame energiesystemen en hoogfrequente communicatie, waarbij betrouwbaarheid en efficiëntie van cruciaal belang zijn.

Bovendien Semicera'sSiliciumcarbide-epitaxiebiedt verbeterde thermische geleidbaarheid en hogere doorslagspanning, waardoor het de voorkeurskeuze is voor apparaten die onder extreme omstandigheden werken. Deze eigenschappen dragen bij aan een langere levensduur van apparaten en een verbeterde algehele systeemefficiëntie, vooral in omgevingen met hoog vermogen en hoge temperaturen.

Semicera biedt ook aanpassingsmogelijkheden voorSiliciumcarbide-epitaxie, waardoor oplossingen op maat mogelijk zijn die voldoen aan specifieke apparaatvereisten. Of het nu gaat om onderzoek of grootschalige productie, onze epitaxiale lagen zijn ontworpen om de volgende generatie halfgeleiderinnovaties te ondersteunen, waardoor de ontwikkeling van krachtigere, efficiëntere en betrouwbaardere elektronische apparaten mogelijk wordt.

Door geavanceerde technologie en strenge kwaliteitscontroleprocessen te integreren, zorgt Semicera ervoor dat onzeSiliciumcarbide-epitaxieproducten voldoen niet alleen aan de industriële normen, maar overtreffen deze zelfs. Deze toewijding aan uitmuntendheid maakt onze epitaxiale lagen tot de ideale basis voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen, waardoor de weg wordt vrijgemaakt voor doorbraken in vermogenselektronica en opto-elektronica.

Artikelen

Productie

Onderzoek

Dummie

Kristalparameters

Polytype

4H

Fout in oppervlakteoriëntatie

<11-20 >4±0,15°

Elektrische parameters

Doteringsmiddel

n-type stikstof

Weerstand

0,015-0,025 ohm·cm

Mechanische parameters

Diameter

150,0 ± 0,2 mm

Dikte

350±25 μm

Primaire vlakke oriëntatie

[1-100]±5°

Primaire platte lengte

47,5 ± 1,5 mm

Secundaire flat

Geen

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5 mm * 5 mm)

≤5 μm (5 mm * 5 mm)

≤10 μm (5 mm * 5 mm)

Boog

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Verdraaien

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Voorste (Si-gezicht) ruwheid (AFM)

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Structuur

Dichtheid van de micropijp

<1 stuk/cm2

<10 stuks/cm2

<15 stuks/cm2

Metaalonzuiverheden

≤5E10 atomen/cm2

NA

BPD

≤1500 e/cm2

≤3000 e/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 e/cm2

NA

Front kwaliteit

Voorkant

Si

Oppervlakteafwerking

Si-face CMP

Deeltjes

≤60ea/wafeltje (size≥0.3μm)

NA

Krassen

≤5ea/mm. Cumulatieve lengte ≤Diameter

Cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Sinaasappelschil/putten/vlekken/strepen/scheuren/verontreiniging

Geen

NA

Randchips/inkepingen/breuk/zeskantplaten

Geen

Polytype-gebieden

Geen

Cumulatief gebied≤20%

Cumulatief gebied≤30%

Lasermarkering aan de voorkant

Geen

Terug Kwaliteit

Afwerking achterkant

C-face CMP

Krassen

≤5ea/mm, cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Rugdefecten (randchips/inkepingen)

Geen

Ruwheid van de rug

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Lasermarkering op de achterkant

1 mm (vanaf bovenrand)

Rand

Rand

Afschuining

Verpakking

Verpakking

Epi-ready met vacuümverpakking

Verpakking met meerdere wafercassettes

*Opmerkingen: "NA" betekent geen verzoek. Niet genoemde items kunnen verwijzen naar SEMI-STD.

tech_1_2_grootte
SiC-wafels

  • Vorig:
  • Volgende: