Beschrijving
De Semicorex Wafer Carriers met SiC-coating bieden uitzonderlijke thermische stabiliteit en geleidbaarheid en zorgen voor een uniforme warmteverdeling tijdens CVD-processen, cruciaal voor hoogwaardige dunne film- en coatingeigenschappen.
Belangrijkste kenmerken:
1. Uitstekende thermische stabiliteit en geleidbaarheidOnze SiC-gecoate waferdragers blinken uit in het handhaven van stabiele en consistente temperaturen, cruciaal voor CVD-processen. Dit zorgt voor een uniforme warmteverdeling, wat leidt tot superieure dunne film- en coatingkwaliteit.
2. PrecisieproductieElke waferdrager wordt vervaardigd volgens strenge normen, waardoor een uniforme dikte en gladheid van het oppervlak wordt gegarandeerd. Deze precisie is essentieel voor het bereiken van consistente depositiesnelheden en filmeigenschappen over meerdere wafers, waardoor de algehele productiekwaliteit wordt verbeterd.
3. OnzuiverheidsbarrièreDe SiC-coating fungeert als een ondoordringbare barrière en voorkomt de diffusie van onzuiverheden van de susceptor naar de wafer. Dit minimaliseert het besmettingsrisico, wat van cruciaal belang is voor de productie van halfgeleiderapparaten met een hoge zuiverheid.
4. Duurzaamheid en kostenefficiëntieDe robuuste constructie en SiC-coating vergroten de duurzaamheid van de waferdragers, waardoor de frequentie van susceptorvervangingen wordt verminderd. Dit leidt tot lagere onderhoudskosten en minimale stilstand, waardoor de efficiëntie van de productie van halfgeleiders toeneemt.
5. AanpassingsoptiesSemicorex Wafer Carriers met SiC-coating kunnen worden aangepast om te voldoen aan specifieke procesvereisten, inclusief variaties in grootte, vorm en coatingdikte. Deze flexibiliteit maakt de optimalisatie van de susceptor mogelijk om te voldoen aan de unieke eisen van verschillende halfgeleiderfabricageprocessen. Aanpassingsopties maken de ontwikkeling mogelijk van susceptorontwerpen die op maat zijn gemaakt voor gespecialiseerde toepassingen, zoals productie in grote volumes of onderzoek en ontwikkeling, waardoor optimale prestaties voor specifieke gebruikssituaties worden gegarandeerd.
Toepassingen:
Semicera Wafer Carriers met SiC-coating zijn bij uitstek geschikt voor:
• Epitaxiale groei van halfgeleidermaterialen
• Chemische Vapour Deposition (CVD)-processen
• Productie van hoogwaardige halfgeleiderwafels
• Geavanceerde toepassingen voor de productie van halfgeleiders
Technische specificaties:
