SiC-coating Grafiet Wafer Susceptor

Korte beschrijving:

De SiC Coating Graphite Wafer Susceptor van Semicera Semiconductor levert superieure thermische prestaties en duurzaamheid voor waferverwerking. Vertrouw op Semicera voor geavanceerde SiC-gecoate susceptors die zijn ontworpen om de efficiëntie en betrouwbaarheid in halfgeleidertoepassingen te verbeteren.


Productdetail

Productlabels

Beschrijving

De SiC Wafer Susceptors van Semicorex voor MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) zijn ontworpen om te voldoen aan de veeleisende eisen van epitaxiale depositieprocessen. Deze susceptors maken gebruik van hoogwaardig siliciumcarbide (SiC) en bieden ongeëvenaarde duurzaamheid en prestaties in omgevingen met hoge temperaturen en corrosieve omstandigheden, waardoor de precieze en efficiënte groei van halfgeleidermaterialen wordt gegarandeerd.

Belangrijkste kenmerken:

1. Superieure materiaaleigenschappenOnze wafer-susceptoren zijn gemaakt van hoogwaardig SiC en vertonen een uitzonderlijke thermische geleidbaarheid en chemische weerstand. Dankzij deze eigenschappen zijn ze bestand tegen de extreme omstandigheden van MOCVD-processen, inclusief hoge temperaturen en corrosieve gassen, waardoor een lange levensduur en betrouwbare prestaties worden gegarandeerd.

2. Precisie bij epitaxiale afzettingDe precieze techniek van onze SiC Wafer Susceptors zorgt voor een uniforme temperatuurverdeling over het waferoppervlak, waardoor een consistente en hoogwaardige epitaxiale laaggroei mogelijk wordt gemaakt. Deze precisie is van cruciaal belang voor het produceren van halfgeleiders met optimale elektrische eigenschappen.

3. Verbeterde duurzaamheidHet robuuste SiC-materiaal biedt uitstekende weerstand tegen slijtage en degradatie, zelfs bij voortdurende blootstelling aan zware procesomgevingen. Deze duurzaamheid vermindert de frequentie van susceptorvervangingen, waardoor uitvaltijd en operationele kosten worden geminimaliseerd.

Toepassingen:

De SiC Wafer Susceptors voor MOCVD van Semicorex zijn bij uitstek geschikt voor:

• Epitaxiale groei van halfgeleidermaterialen

• MOCVD-processen op hoge temperatuur

• Productie van GaN, AlN en andere samengestelde halfgeleiders

• Geavanceerde toepassingen voor de productie van halfgeleiders

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coatings:

微信截图_20240wert729144258

Voordelen:

Hoge precisie: Zorgt voor een uniforme en hoogwaardige epitaxiale groei.

Langdurige prestaties: Uitzonderlijke duurzaamheid vermindert de vervangingsfrequentie.

• Kostenefficiëntie: Minimaliseert de operationele kosten door verminderde uitvaltijd en onderhoud.

Veelzijdigheid: Aanpasbaar om te voldoen aan verschillende MOCVD-procesvereisten.

Semicera-werkplaats
Semicera-werkplaats 2
Uitrustingsmachine
CNN-verwerking, chemische reiniging, CVD-coating
Semicera Warenhuis
Onze service

  • Vorig:
  • Volgende: