Semicerapresenteert met trots zijn allernieuwsteGaN-epitaxiediensten, ontworpen om te voldoen aan de steeds evoluerende behoeften van de halfgeleiderindustrie. Galliumnitride (GaN) is een materiaal dat bekend staat om zijn uitzonderlijke eigenschappen, en onze epitaxiale groeiprocessen zorgen ervoor dat deze voordelen volledig in uw apparaten worden gerealiseerd.
Hoogwaardige GaN-lagen Semicerais gespecialiseerd in de productie van hoogwaardige kwaliteitGaN-epitaxielagen, die een ongeëvenaarde materiaalzuiverheid en structurele integriteit bieden. Deze lagen zijn van cruciaal belang voor een verscheidenheid aan toepassingen, van vermogenselektronica tot opto-elektronica, waarbij superieure prestaties en betrouwbaarheid essentieel zijn. Onze precisiegroeitechnieken zorgen ervoor dat elke GaN-laag voldoet aan de strenge normen die vereist zijn voor geavanceerde apparaten.
Geoptimaliseerd voor efficiëntieDeGaN-epitaxiegeleverd door Semicera is speciaal ontworpen om de efficiëntie van uw elektronische componenten te verbeteren. Door GaN-lagen met lage defecten en hoge zuiverheid te leveren, zorgen we ervoor dat apparaten op hogere frequenties en spanningen kunnen werken, met minder vermogensverlies. Deze optimalisatie is van cruciaal belang voor toepassingen zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT's) en light-emitting diodes (LED's), waarbij efficiëntie van het grootste belang is.
Veelzijdig toepassingspotentieel Semicera'SGaN-epitaxieis veelzijdig en geschikt voor een breed scala aan industrieën en toepassingen. Of u nu eindversterkers, RF-componenten of laserdiodes ontwikkelt, onze GaN epitaxiale lagen vormen de basis die nodig is voor krachtige, betrouwbare apparaten. Ons proces kan worden aangepast aan specifieke vereisten, zodat uw producten optimale resultaten behalen.
Toewijding aan kwaliteitKwaliteit is de hoeksteen vanSemicera's benadering vanGaN-epitaxie. We gebruiken geavanceerde epitaxiale groeitechnologieën en strenge kwaliteitscontrolemaatregelen om GaN-lagen te produceren die uitstekende uniformiteit, lage defectdichtheden en superieure materiaaleigenschappen vertonen. Deze toewijding aan kwaliteit zorgt ervoor dat uw apparaten niet alleen voldoen aan de industrienormen, maar deze zelfs overtreffen.
Innovatieve groeitechnieken Semiceraloopt voorop als het gaat om innovatie op het gebied vanGaN-epitaxie. Ons team onderzoekt voortdurend nieuwe methoden en technologieën om het groeiproces te verbeteren en GaN-lagen te leveren met verbeterde elektrische en thermische eigenschappen. Deze innovaties vertalen zich in beter presterende apparaten, die kunnen voldoen aan de eisen van toepassingen van de volgende generatie.
Maatwerkoplossingen voor uw projectenErkennend dat elk project unieke vereisten heeft,Semiceraaanbiedingen op maatGaN-epitaxieoplossingen. Of u nu specifieke dopingprofielen, laagdiktes of oppervlakteafwerkingen nodig heeft, wij werken nauw met u samen om een proces te ontwikkelen dat precies aan uw behoeften voldoet. Ons doel is om u te voorzien van GaN-lagen die nauwkeurig zijn ontworpen om de prestaties en betrouwbaarheid van uw apparaat te ondersteunen.
Artikelen | Productie | Onderzoek | Dummie |
Kristalparameters | |||
Polytype | 4H | ||
Fout in oppervlakteoriëntatie | <11-20 >4±0,15° | ||
Elektrische parameters | |||
Doteringsmiddel | n-type stikstof | ||
Weerstand | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
Mechanische parameters | |||
Diameter | 150,0 ± 0,2 mm | ||
Dikte | 350±25 μm | ||
Primaire vlakke oriëntatie | [1-100]±5° | ||
Primaire platte lengte | 47,5 ± 1,5 mm | ||
Secundaire flat | Geen | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5 mm * 5 mm) | ≤5 μm (5 mm * 5 mm) | ≤10 μm (5 mm * 5 mm) |
Boog | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Verdraaien | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Voorste (Si-gezicht) ruwheid (AFM) | Ra≤0,2 nm (5μm*5μm) | ||
Structuur | |||
Dichtheid van de micropijp | <1 stuk/cm2 | <10 stuks/cm2 | <15 stuks/cm2 |
Metaalonzuiverheden | ≤5E10 atomen/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 e/cm2 | ≤3000 e/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 e/cm2 | NA |
Front kwaliteit | |||
Voorkant | Si | ||
Oppervlakteafwerking | Si-face CMP | ||
Deeltjes | ≤60ea/wafeltje (size≥0.3μm) | NA | |
Krassen | ≤5ea/mm. Cumulatieve lengte ≤Diameter | Cumulatieve lengte≤2*Diameter | NA |
Sinaasappelschil/putten/vlekken/strepen/scheuren/verontreiniging | Geen | NA | |
Randchips/inkepingen/breuk/zeskantplaten | Geen | ||
Polytype-gebieden | Geen | Cumulatief gebied≤20% | Cumulatief gebied≤30% |
Lasermarkering aan de voorkant | Geen | ||
Terug Kwaliteit | |||
Afwerking achterkant | C-face CMP | ||
Krassen | ≤5ea/mm, cumulatieve lengte≤2*Diameter | NA | |
Rugdefecten (randchips/inkepingen) | Geen | ||
Ruwheid van de rug | Ra≤0,2 nm (5μm*5μm) | ||
Lasermarkering op de achterkant | 1 mm (vanaf bovenrand) | ||
Rand | |||
Rand | Afschuining | ||
Verpakking | |||
Verpakking | Epi-ready met vacuümverpakking Verpakking met meerdere wafercassettes | ||
*Opmerkingen: "NA" betekent geen verzoek. Niet genoemde items kunnen verwijzen naar SEMI-STD. |