CVD Siliciumcarbide (SiC)-etsring is een speciaal onderdeel gemaakt van siliciumcarbide (SiC) met behulp van de Chemical Vapour Deposition (CVD)-methode. CVD Siliciumcarbide (SiC) etsring speelt een sleutelrol in een verscheidenheid aan industriële toepassingen, vooral bij processen waarbij materiaal wordt geëtst. Siliciumcarbide is een uniek en geavanceerd keramisch materiaal dat bekend staat om zijn uitstekende eigenschappen, waaronder hoge hardheid, uitstekende thermische geleidbaarheid en weerstand tegen agressieve chemische omgevingen.
Het Chemical Vapour Deposition-proces omvat het afzetten van een dunne laag SiC op een substraat in een gecontroleerde omgeving, wat resulteert in een zeer zuiver en nauwkeurig ontworpen materiaal. CVD Siliciumcarbide staat bekend om zijn uniforme en dichte microstructuur, uitstekende mechanische sterkte en verbeterde thermische stabiliteit.
CVD Siliciumcarbide (SiC) etsring is gemaakt van CVD Siliciumcarbide, dat niet alleen voor uitstekende duurzaamheid zorgt, maar ook bestand is tegen chemische corrosie en extreme temperatuurveranderingen. Dit maakt hem ideaal voor toepassingen waarbij precisie, betrouwbaarheid en levensduur van cruciaal belang zijn.
✓Topkwaliteit op de Chinese markt
✓Goede service altijd voor u, 7*24 uur
✓Korte leverdatum
✓Kleine MOQ welkom en geaccepteerd
✓Aangepaste diensten
Epitaxiegroeisusceptor
Silicium/siliciumcarbidewafels moeten meerdere processen doorlopen voordat ze in elektronische apparaten kunnen worden gebruikt. Een belangrijk proces is silicium/sic-epitaxie, waarbij silicium/sic-wafels op een grafietbasis worden gedragen. Speciale voordelen van de met siliciumcarbide gecoate grafietbasis van Semicera zijn onder meer een extreem hoge zuiverheid, uniforme coating en een extreem lange levensduur. Ze hebben ook een hoge chemische weerstand en thermische stabiliteit.
Productie van LED-chips
Tijdens het uitgebreide coating van de MOCVD-reactor beweegt de planetaire basis of drager de substraatwafel. De prestaties van het basismateriaal hebben een grote invloed op de coatingkwaliteit, wat op zijn beurt de afvalsnelheid van de chip beïnvloedt. De met siliciumcarbide gecoate basis van Semicera verhoogt de productie-efficiëntie van hoogwaardige LED-wafels en minimaliseert de golflengteafwijking. We leveren ook aanvullende grafietcomponenten voor alle MOCVD-reactoren die momenteel in gebruik zijn. We kunnen vrijwel elk onderdeel coaten met een siliciumcarbidecoating, zelfs als de componentdiameter maximaal 1,5M bedraagt, kunnen we nog steeds coaten met siliciumcarbide.
Halfgeleiderveld, oxidatiediffusieproces, enz.
In het halfgeleiderproces vereist het oxidatie-expansieproces een hoge productzuiverheid, en bij Semicera bieden we op maat gemaakte en CVD-coatingdiensten voor de meeste siliciumcarbideonderdelen.
Op de volgende foto is de ruw verwerkte siliciumcarbideslurry van Semicea te zien en de siliciumcarbide ovenbuis die in de 1000-niveaustofvrijkamer. Onze werknemers werken vóór het coaten. De zuiverheid van ons siliciumcarbide kan 99,99% bereiken en de zuiverheid van de sic-coating is groter dan 99,99995%
Ruwe siliciumcarbide-peddel en SiC-procesbuis tijdens het reinigen
Siliciumcarbide waferboot CVD SiC gecoat
