4 inch SiC-substraat N-type

Korte beschrijving:

Semicera biedt een breed assortiment 4H-8H SiC-wafels. Wij zijn al jaren fabrikant en leverancier van producten voor de halfgeleider- en fotovoltaïsche industrie. Onze belangrijkste producten zijn onder meer: ​​etsplaten van siliciumcarbide, boottrailers van siliciumcarbide, waferboten van siliciumcarbide (PV en halfgeleider), ovenbuizen van siliciumcarbide, vrijdragende peddels van siliciumcarbide, klauwplaten van siliciumcarbide, balken van siliciumcarbide, evenals CVD SiC-coatings en TaC-coatings. Bestrijkt de meeste Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te zijn.

 

Productdetail

Productlabels

tech_1_2_grootte

Siliciumcarbide (SiC) eenkristalmateriaal heeft een grote bandbreedte (~Si 3 keer), hoge thermische geleidbaarheid (~Si 3,3 keer of GaAs 10 keer), hoge elektronenverzadigingsmigratiesnelheid (~Si 2,5 keer), hoge elektrische doorslag veld (~Si 10 keer of GaAs 5 keer) en andere uitstekende kenmerken.

Semicera Energy kan klanten voorzien van hoogwaardig geleidend (geleidend), semi-isolerend (semi-isolerend), HPSI (high purity semi-isolerend) siliciumcarbidesubstraat; Daarnaast kunnen we klanten voorzien van homogene en heterogene epitaxiale platen van siliciumcarbide; We kunnen de epitaxiale plaat ook aanpassen aan de specifieke behoeften van klanten, en er is geen minimale bestelhoeveelheid.

Artikelen

Productie

Onderzoek

Dummie

Kristalparameters

Polytype

4H

Fout in oppervlakteoriëntatie

<11-20 >4±0,15°

Elektrische parameters

Doteringsmiddel

n-type stikstof

Weerstand

0,015-0,025 ohm·cm

Mechanische parameters

Diameter

99,5 - 100 mm

Dikte

350±25 μm

Primaire vlakke oriëntatie

[1-100]±5°

Primaire platte lengte

32,5 ± 1,5 mm

Secundaire vlakke positie

90° CW vanaf primair vlak ±5°. silicium naar boven gericht

Secundaire platte lengte

18 ± 1,5 mm

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤20 μm

LTV

≤2 μm (5 mm * 5 mm)

≤5 μm (5 mm * 5 mm)

NA

Boog

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Verdraaien

≤20 μm

≤45 μm

≤50 μm

Voorste (Si-gezicht) ruwheid (AFM)

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Structuur

Dichtheid van de micropijp

≤1 ea/cm2

≤5 ea/cm2

≤10 ea/cm2

Metaalonzuiverheden

≤5E10 atomen/cm2

NA

BPD

≤1500 e/cm2

≤3000 e/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 e/cm2

NA

Front kwaliteit

Voorkant

Si

Oppervlakteafwerking

Si-face CMP

Deeltjes

≤60ea/wafeltje (size≥0.3μm)

NA

Krassen

≤2ea/mm. Cumulatieve lengte ≤Diameter

Cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Sinaasappelschil/putten/vlekken/strepen/scheuren/verontreiniging

Geen

NA

Randchips/inkepingen/breuk/zeskantplaten

Geen

NA

Polytype-gebieden

Geen

Cumulatief gebied≤20%

Cumulatief gebied≤30%

Lasermarkering aan de voorkant

Geen

Terug Kwaliteit

Afwerking achterkant

C-face CMP

Krassen

≤5ea/mm, cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Rugdefecten (randchips/inkepingen)

Geen

Ruwheid van de rug

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Lasermarkering op de achterkant

1 mm (vanaf bovenrand)

Rand

Rand

Afschuining

Verpakking

Verpakking

De binnenzak wordt gevuld met stikstof en de buitenzak wordt gevacumeerd.

Multi-wafercassette, epi-klaar.

*Opmerkingen: "NA" betekent geen verzoek. Niet genoemde items kunnen verwijzen naar SEMI-STD.

SiC-wafels

Semicera-werkplaats Semicera-werkplaats 2 Uitrustingsmachine CNN-verwerking, chemische reiniging, CVD-coating Onze service


  • Vorig:
  • Volgende: