De 4 inch N-type SiC-substraten van Semicera zijn vervaardigd om te voldoen aan de veeleisende normen van de halfgeleiderindustrie. Deze substraten bieden een hoogwaardige basis voor een breed scala aan elektronische toepassingen en bieden uitzonderlijke geleidbaarheid en thermische eigenschappen.
De N-type dotering van deze SiC-substraten verbetert hun elektrische geleidbaarheid, waardoor ze bijzonder geschikt zijn voor toepassingen met hoog vermogen en hoge frequentie. Deze eigenschap maakt de efficiënte werking van apparaten zoals diodes, transistors en versterkers mogelijk, waarbij het minimaliseren van energieverlies cruciaal is.
Semicera maakt gebruik van de modernste productieprocessen om ervoor te zorgen dat elk substraat een uitstekende oppervlaktekwaliteit en uniformiteit vertoont. Deze precisie is van cruciaal belang voor toepassingen in vermogenselektronica, microgolfapparaten en andere technologieën die betrouwbare prestaties onder extreme omstandigheden vereisen.
Door de N-type SiC-substraten van Semicera in uw productielijn te integreren, profiteert u van materialen die superieure warmteafvoer en elektrische stabiliteit bieden. Deze substraten zijn ideaal voor het maken van componenten die duurzaamheid en efficiëntie vereisen, zoals stroomconversiesystemen en RF-versterkers.
Door te kiezen voor de 4 inch N-type SiC-substraten van Semicera investeert u in een product dat innovatieve materiaalkunde combineert met nauwgezet vakmanschap. Semicera blijft toonaangevend in de sector door oplossingen te bieden die de ontwikkeling van geavanceerde halfgeleidertechnologieën ondersteunen en hoge prestaties en betrouwbaarheid garanderen.
Artikelen | Productie | Onderzoek | Dummie |
Kristalparameters | |||
Polytype | 4H | ||
Fout in oppervlakteoriëntatie | <11-20 >4±0,15° | ||
Elektrische parameters | |||
Doteringsmiddel | n-type stikstof | ||
Weerstand | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
Mechanische parameters | |||
Diameter | 150,0 ± 0,2 mm | ||
Dikte | 350±25 μm | ||
Primaire vlakke oriëntatie | [1-100]±5° | ||
Primaire platte lengte | 47,5 ± 1,5 mm | ||
Secundaire flat | Geen | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5 mm * 5 mm) | ≤5 μm (5 mm * 5 mm) | ≤10 μm (5 mm * 5 mm) |
Boog | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Verdraaien | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Voorste (Si-gezicht) ruwheid (AFM) | Ra≤0,2 nm (5μm*5μm) | ||
Structuur | |||
Dichtheid van de micropijp | <1 stuk/cm2 | <10 stuks/cm2 | <15 stuks/cm2 |
Metaalonzuiverheden | ≤5E10 atomen/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 e/cm2 | ≤3000 e/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 e/cm2 | NA |
Front kwaliteit | |||
Voorkant | Si | ||
Oppervlakteafwerking | Si-face CMP | ||
Deeltjes | ≤60ea/wafeltje (size≥0.3μm) | NA | |
Krassen | ≤5ea/mm. Cumulatieve lengte ≤Diameter | Cumulatieve lengte≤2*Diameter | NA |
Sinaasappelschil/putten/vlekken/strepen/scheuren/verontreiniging | Geen | NA | |
Randchips/inkepingen/breuk/zeskantplaten | Geen | ||
Polytype-gebieden | Geen | Cumulatief gebied≤20% | Cumulatief gebied≤30% |
Lasermarkering aan de voorkant | Geen | ||
Terug Kwaliteit | |||
Afwerking achterkant | C-face CMP | ||
Krassen | ≤5ea/mm, cumulatieve lengte≤2*Diameter | NA | |
Rugdefecten (randchips/inkepingen) | Geen | ||
Ruwheid van de rug | Ra≤0,2 nm (5μm*5μm) | ||
Lasermarkering op de achterkant | 1 mm (vanaf bovenrand) | ||
Rand | |||
Rand | Afschuining | ||
Verpakking | |||
Verpakking | Epi-ready met vacuümverpakking Verpakking met meerdere wafercassettes | ||
*Opmerkingen: "NA" betekent geen verzoek. Niet genoemde items kunnen verwijzen naar SEMI-STD. |