4 inch N-type SiC-substraat

Korte beschrijving:

De 4 inch N-type SiC-substraten van Semicera zijn zorgvuldig ontworpen voor superieure elektrische en thermische prestaties in vermogenselektronica en hoogfrequente toepassingen. Deze substraten bieden uitstekende geleidbaarheid en stabiliteit, waardoor ze ideaal zijn voor halfgeleiderapparaten van de volgende generatie. Vertrouw op Semicera voor precisie en kwaliteit in geavanceerde materialen.


Productdetail

Productlabels

De 4 inch N-type SiC-substraten van Semicera zijn vervaardigd om te voldoen aan de veeleisende normen van de halfgeleiderindustrie. Deze substraten bieden een hoogwaardige basis voor een breed scala aan elektronische toepassingen en bieden uitzonderlijke geleidbaarheid en thermische eigenschappen.

De N-type dotering van deze SiC-substraten verbetert hun elektrische geleidbaarheid, waardoor ze bijzonder geschikt zijn voor toepassingen met hoog vermogen en hoge frequentie. Deze eigenschap maakt de efficiënte werking van apparaten zoals diodes, transistors en versterkers mogelijk, waarbij het minimaliseren van energieverlies cruciaal is.

Semicera maakt gebruik van de modernste productieprocessen om ervoor te zorgen dat elk substraat een uitstekende oppervlaktekwaliteit en uniformiteit vertoont. Deze precisie is van cruciaal belang voor toepassingen in vermogenselektronica, microgolfapparaten en andere technologieën die betrouwbare prestaties onder extreme omstandigheden vereisen.

Door de N-type SiC-substraten van Semicera in uw productielijn te integreren, profiteert u van materialen die superieure warmteafvoer en elektrische stabiliteit bieden. Deze substraten zijn ideaal voor het maken van componenten die duurzaamheid en efficiëntie vereisen, zoals stroomconversiesystemen en RF-versterkers.

Door te kiezen voor de 4 inch N-type SiC-substraten van Semicera investeert u in een product dat innovatieve materiaalkunde combineert met nauwgezet vakmanschap. Semicera blijft toonaangevend in de sector door oplossingen te bieden die de ontwikkeling van geavanceerde halfgeleidertechnologieën ondersteunen en hoge prestaties en betrouwbaarheid garanderen.

Artikelen

Productie

Onderzoek

Dummie

Kristalparameters

Polytype

4H

Fout in oppervlakteoriëntatie

<11-20 >4±0,15°

Elektrische parameters

Doteringsmiddel

n-type stikstof

Weerstand

0,015-0,025 ohm·cm

Mechanische parameters

Diameter

150,0 ± 0,2 mm

Dikte

350±25 μm

Primaire vlakke oriëntatie

[1-100]±5°

Primaire platte lengte

47,5 ± 1,5 mm

Secundaire flat

Geen

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5 mm * 5 mm)

≤5 μm (5 mm * 5 mm)

≤10 μm (5 mm * 5 mm)

Boog

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Verdraaien

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Voorste (Si-gezicht) ruwheid (AFM)

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Structuur

Dichtheid van de micropijp

<1 stuk/cm2

<10 stuks/cm2

<15 stuks/cm2

Metaalonzuiverheden

≤5E10 atomen/cm2

NA

BPD

≤1500 e/cm2

≤3000 e/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 e/cm2

NA

Front kwaliteit

Voorkant

Si

Oppervlakteafwerking

Si-face CMP

Deeltjes

≤60ea/wafeltje (size≥0.3μm)

NA

Krassen

≤5ea/mm. Cumulatieve lengte ≤Diameter

Cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Sinaasappelschil/putten/vlekken/strepen/scheuren/verontreiniging

Geen

NA

Randchips/inkepingen/breuk/zeskantplaten

Geen

Polytype-gebieden

Geen

Cumulatief gebied≤20%

Cumulatief gebied≤30%

Lasermarkering aan de voorkant

Geen

Terug Kwaliteit

Afwerking achterkant

C-face CMP

Krassen

≤5ea/mm, cumulatieve lengte≤2*Diameter

NA

Rugdefecten (randchips/inkepingen)

Geen

Ruwheid van de rug

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Lasermarkering op de achterkant

1 mm (vanaf bovenrand)

Rand

Rand

Afschuining

Verpakking

Verpakking

Epi-ready met vacuümverpakking

Verpakking met meerdere wafercassettes

*Opmerkingen: "NA" betekent geen verzoek. Niet genoemde items kunnen verwijzen naar SEMI-STD.

tech_1_2_grootte
SiC-wafels

  • Vorig:
  • Volgende: