4″ 6″ 8″ Geleidende en semi-isolerende substraten

Korte beschrijving:

Semicera streeft ernaar halfgeleidersubstraten van hoge kwaliteit te leveren, die belangrijke materialen zijn voor de productie van halfgeleiderapparaten. Onze substraten zijn onderverdeeld in geleidende en semi-isolerende typen om aan de behoeften van verschillende toepassingen te voldoen. Door een diepgaand begrip van de elektrische eigenschappen van substraten helpt Semicera u bij het kiezen van de meest geschikte materialen om uitstekende prestaties bij de productie van apparaten te garanderen. Kies voor Semicera, kies voor uitstekende kwaliteit die zowel betrouwbaarheid als innovatie benadrukt.


Productdetail

Productlabels

Siliciumcarbide (SiC) eenkristalmateriaal heeft een grote bandbreedte (~Si 3 keer), hoge thermische geleidbaarheid (~Si 3,3 keer of GaAs 10 keer), hoge elektronenverzadigingsmigratiesnelheid (~Si 2,5 keer), hoge elektrische doorslag veld (~Si 10 keer of GaAs 5 keer) en andere uitstekende kenmerken.

De halfgeleidermaterialen van de derde generatie omvatten voornamelijk SiC, GaN, diamant, enz., omdat de bandbreedte (Eg) ervan groter is dan of gelijk is aan 2,3 elektronvolt (eV), ook bekend als halfgeleidermaterialen met grote bandafstand. Vergeleken met de halfgeleidermaterialen van de eerste en tweede generatie hebben de halfgeleidermaterialen van de derde generatie de voordelen van hoge thermische geleidbaarheid, hoog elektrisch doorslagveld, hoge verzadigde elektronenmigratiesnelheid en hoge bindingsenergie, die kunnen voldoen aan de nieuwe eisen van moderne elektronische technologie voor hoge temperatuur, hoog vermogen, hoge druk, hoge frequentie en stralingsweerstand en andere zware omstandigheden. Het heeft belangrijke toepassingsmogelijkheden op het gebied van de nationale defensie, luchtvaart, ruimtevaart, olie-exploratie, optische opslag, enz., en kan het energieverlies met meer dan 50% verminderen in veel strategische industrieën zoals breedbandcommunicatie, zonne-energie, autoproductie, halfgeleiderverlichting en smart grid, en kan het apparatuurvolume met meer dan 75% verminderen, wat van cruciaal belang is voor de ontwikkeling van menselijke wetenschap en technologie.

Semicera Energy kan klanten voorzien van hoogwaardig geleidend (geleidend), semi-isolerend (semi-isolerend), HPSI (high purity semi-isolerend) siliciumcarbidesubstraat; Daarnaast kunnen we klanten voorzien van homogene en heterogene epitaxiale platen van siliciumcarbide; We kunnen de epitaxiale plaat ook aanpassen aan de specifieke behoeften van klanten, en er is geen minimale bestelhoeveelheid.

WAFERINGSPECIFICATIES

*n-Pm=n-type Pm-kwaliteit,n-Ps=n-type Ps-kwaliteit,Sl=Semi-isolerend

Item

8 inch

6 inch

4 inch
nP n-Pm n-Ps SI SI
TTV(GBIR) ≤6um ≤6um
Boog (GF3YFCD)-Absolute waarde ≤15μm ≤15μm ≤25μm ≤15μm
Afwijking(GF3YFER) ≤25μm ≤25μm ≤40μm ≤25μm
LTV(SBIR)-10mmx10mm <2μm
Wafer rand Afschuining

OPPERVLAKTEAFWERKING

*n-Pm=n-type Pm-kwaliteit,n-Ps=n-type Ps-kwaliteit,Sl=Semi-isolerend

Item

8 inch

6 inch

4 inch

nP n-Pm n-Ps SI SI
Oppervlakteafwerking Dubbelzijdig optisch polijstmiddel, Si-Face CMP
Oppervlakteruwheid (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2nm
C-vlak Ra≤ 0,5 nm
(5umx5um) Si-vlak Ra≤0,2 nm
C-gezicht Ra≤0,5 nm
Randchips Niets toegestaan ​​(lengte en breedte≥0,5 mm)
Inspringingen Geen toegestaan
Krassen (Si-gezicht) Aantal ≤5, cumulatief
Lengte≤0,5×wafeldiameter
Aantal ≤5, cumulatief
Lengte≤0,5×wafeldiameter
Aantal ≤5, cumulatief
Lengte≤0,5×wafeldiameter
Scheuren Geen toegestaan
Randuitsluiting 3 mm
第2页-2
第2页-1
SiC-wafels

  • Vorig:
  • Volgende: